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半導體行業廢氣治理:常見的廢氣類型與高效治理技術

發布日期:2025-02-08 來源:天得一 閱讀量:885

在科技飛速發展的當下,半導體作為現代電子產業的基石,重要性不言而喻。然而,半導體生產過程中產生的工業廢氣,給環境帶來了不小的挑戰。接下來,讓我們跟隨天得一小編深入了解半導體行業主要的工業廢氣類型及其治理方式。

半導體行業廢氣治理

酸堿廢氣治理:在半導體制造的清洗、蝕刻等環節,酸性與堿性廢氣相伴而生。酸性廢氣包含硫酸霧、氫氟酸、鹽酸等強腐蝕性氣體,堿性廢氣則以氨氣最為常見。這些廢氣若未經處理直接排放,不僅會損壞生產設備,危害人體健康,還會對大氣環境產生負面影響,如引發酸雨。針對酸堿廢氣的特性,天得一利用酸堿中和、多級吸收和吸附、常溫催化氧化等工藝,深度凈化酸堿廢氣,確保排放達標,為半導體生產營造綠色環境。


CVD 廢氣治理:CVD 工藝在半導體制造中至關重要,但其產生的廢氣成分復雜、治理難度大。天得一采用高效真空泵抽取 CVD 廢氣,先經 Local Scrubber 凈化裝置初步處理,去除大顆粒污染物和部分有害成分,隨后進入 Central Scrubber 深度治理。這里采用冷凝、燃燒、除塵、洗滌、吸收、吸附和靜電等多種凈化方式協同作業,確保 CVD 廢氣達標排放,滿足半導體生產的環保需求。

半導體行業廢氣治理

有機廢氣治理:光刻、涂膠顯影等半導體生產工藝會使用大量有機溶劑,產生以非甲烷總烴、苯系物、硅烷等揮發性有機物(VOCs)為主的有機廢氣。這些有機廢氣不僅具有揮發性,還可能有毒,天得一運用吸附濃縮 + 催化燃燒技術,先通過吸附劑濃縮低濃度有機廢氣,再利用催化燃燒技術將其分解為二氧化碳和水,處理效率高達 98%。


含氟廢氣治理:在等離子蝕刻等特殊工藝中,會產生四氟化碳、六氟化硫等含氟廢氣。這類氣體溫室效應潛能值高,還會破壞臭氧層,治理難度大。天得一自主研發含氟廢氣處理工藝,結合化學沉淀和吸附技術,有效去除廢氣中的氟化物,降低對環境的影響。


半導體行業的發展離不開環保的支撐,高效治理工業廢氣是實現可持續發展的關鍵。天得一將繼續秉持創新精神,不斷優化和完善廢氣治理技術,為半導體行業以及更多工業領域提供優質、高效的環保服務,助力產業綠色發展,守護我們的藍天白云。

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